Mit der 3 Step Anti-Pollution Mask präsentiert OH K! eine wirksame Formel, die Ihre Haut vor Trockenheit bewahrt, zugleich Verschmutzungen löst und die allgemeine Gesundheit der Haut optimiert. Vitamine, Mineralien und Antioxidantien können perfekt einziehen, während Algea die Haut schützt und hydratisiert und Hyaluronsäure die natürliche Hautschutzbarriere verbessert.
Reinigen Sie Ihr Gesicht, tragen Sie die Maske auf, lassen Sie die Formel für 10–20 Minuten einwirken und massieren Sie die Reste ein.
Aqua (Water, Eau), Myristic Acid, Palmitic Acid, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Lauric Acid, Glycerin, Cocamidopropyl Betaine, Glyceryl Stearate, 1,2-Hexanediol, Disodium Cocoamphodiacetate, Butylene Glycol, Sodium Chloride, PEG-100 Stearate, Phenoxyethanol, Polyquaternium-7, Arachidic Acid, Hexylene Glycol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Disodium EDTA, Sodium Benzoate, Sea Water, Camellia Sinensis Leaf Extract, Laminaria Japonica Extract, Gelidium Cartilagineum Extract, Salicornia Herbacea Extract, Hizikia Fusiforme Extract, Parfum (Fragrance), Butylphenyl Methylpropional, Geraniol, Alpha-Isomethyl Ionone, Citronellol, Limonene, Linalool.
